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戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家知识产(chǎn)权(quán)局局长申长雨在(zài)新闻(wén)发布会上(shàng)表示,将统筹推进各类(lèi)知识产权(quán)法律法规和(hé)制度规则的制修订工作(zuò)。其中,修改完善集成电路布图设计(jì)保护条例,适应(yīng)大规模集(jí)成(chéng)电(diàn)路发展需要,助力芯片产业做大做强,服(fú)务数字(zì)经济更(gèng)好发(fā)展。

  加(jiā)强大数据、人工智(zhì)能(néng)、基因技(jì)术等新领(lǐng)域新业态(tài)知(zhī)识产权规则研(yán)究,助力(lì)相关领域戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画创新发(fā)展。同时(shí),积极参与知识(shí)产(chǎn)权国(guó)际规则制定,更好对接(jiē)高标准国际(jì)经贸(mào)规则(zé),助力(lì)高水平对外开(kāi)放。

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