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鸢尾花怎么读拼音,鸢怎么读 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则突发消息。

  美光公司在华(huá)销(xiāo)售的产品未通过网络安全审查

  据网信(xìn)办(bàn)消息,日(rì)前,网(wǎng)络安全审查(chá)办公室依法对(duì)美光公司在华销售产品进(jìn)行了网(wǎng)络安全审(shěn)查。

  审查(chá)发现,美光(guāng)公司产品存(cún)在较(jiào)严(yán)重网络安(ān)全问题隐(yǐn)患(huàn),对我国关键信(xìn)息基础(chǔ)设(shè)施(shī)供应链造(zào)成重大安(ān)全(quán)风险,影响我国国家安(ān)全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通过(guò)网络安全(quán)审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规,我国内关键信息基础设施(shī)的运营者应停止采购美(měi)光公司产品。

  此(cǐ)次对美光公司产品(pǐn)进行网络安全审(shěn)查,目(mù)的(de)是防(fáng)范产(chǎn)品(pǐn)网络安全问题危害国家关键信(xìn)息基础设施(shī)安全,是维护国家安全的必要措施。中国坚定推进高水平对外开(kāi)放,只要遵守中国(guó)法(fǎ)律法规要求(qiú),欢(huān)迎各国企业、各类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市场。

  半(bàn)导体突发!中国出(chū)手:停止(zhǐ)采(cǎi)购!

  3月31日,中国(guó)网信网发文称,为保(bǎo)障关键(jiàn)信息(xī)基础设施供应链安全,防范(fàn)产品(pǐn)问题隐患造成网络(luò)安全风险,维护国家安全,依据《中华(huá)人民共和国国家安(ān)全法(fǎ)》《中华人民共和国网络安全法》,网络(luò)安全审查(chá)办公室按照《网络安全审查办(bàn)法(fǎ)》,对美光公司(Micron)在华销售鸢尾花怎么读拼音,鸢怎么读的产品实施(shī)网络安全审(shěn)查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采购!

  美光是(shì)美(měi)国的(de)存储(chǔ)芯片行业(yè)龙头,也是全球存(cún)储芯片巨(jù)头之一,2022年收(shōu)入来自(zì)中(zhōng)国市场收入从此前(qián)高峰(fēng)57%降(jiàng)至(zhì)2022年约11%。根(gēn)据(jù)市场咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场(chǎng)份额约(yuē)为 96.76%,三星电(diàn)子、 SK 海力(lì)士、美光(guāng)在全球 DRAM (内存)市(shì)场份额(é)约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波(bō)龙、佰维存储等公(gōng)司披露过美光等国(guó)际存储厂(chǎng)商为(wèi)公司供应商。

  美光在江(jiāng)波龙(lóng)采购占(zhàn)比已经显(xiǎn)著下降,至少已经不(bù)是主要大供应商。

  公告显示, 2021年美光位列(liè)江波龙第一大存储晶圆供应商,采购(gòu)约(yuē)31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年(nián),江波龙第一大、第二大和第三大供应商采(cǎi)购金(jīn)额(é)占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前(qián)江波龙已经(jīng)在存(cún)储(chǔ)产业(yè)链上(shàng)下游建立(lì)国内外(wài)广泛合作。2022年年报显示,江波(bō)龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要(yào)存储(chǔ)晶圆原厂签署了长期合约,确保存(cún)储晶圆供(gōng)应的稳定性(xìng),巩固公司在下游市(shì)场(chǎng)的供应优势(shì),公司也(yě)与(yǔ)国内国产(chǎn)存(cún)储晶圆(yuán)原(yuán)厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合(hé)作。

  有(yǒu)券商(shāng)此前(qián)就(jiù)分析,如(rú)果美光在中国区销售受到限制,或将导致下(xià)游客(kè)户转而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等竞对(duì)产品

  分析称,长存(cún)、长(zhǎng)鑫的上游设(shè)备厂或从中受益。存(cún)储器的(de)生产(chǎn)已经(jīng)演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为(wèi)最关键、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要(yào)经(jīng)过薄膜沉积工(gōng)艺步骤,同时刻(kè)蚀(shí)目前前(qián)沿要刻到(dào) 60:1的(de)深(shēn)孔,未来可能(néng)会更(gèng)深的孔(kǒng)或(huò)者鸢尾花怎么读拼音,鸢怎么读(鸢尾花怎么读拼音,鸢怎么读zhě)沟槽,催生更多(duō)设(shè)备(bèi)需求(qiú)。据东京(jīng)电子披(pī)露,薄膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合(hé)计为75%。自(zì)长(zhǎng)江存储被加(jiā)入美(měi)国限制名单,设备国(guó)产化进程加速,看好(hǎo)拓荆科技(薄膜沉积)等(děng)相(xiāng)关公司份(fèn)额提升(shēng),以及存储业务占比较(jiào)高的(de)华海清科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等收入增长。

 

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